외국 국가의 모노폴리를 파괴, 중국은 "핵심 만들기"의 핵심 기술을 가지고

"PM2.5"는 직경 2.5 미크론보다 적은 익숙한 작은 입자입니다. 그러나 우리는이 제조 칩의 주요 재료를 개발, 당신은 프로세스의 PM1.0 먼지를 입력하는 경우, 재료는 낭비이며, 그것은 칩에 적용 할 수 없습니다. " 간단한 문장에서 Tang Yilin은 새로운 핵심 재료 인 "ultra pure"과 "ultra - Uniform"라고 말했습니다. 열악한 환경을위한 선형 페놀 수지가있는 "photoresist. 5 월 초, 아시아에서 가장 큰 페놀 수지 생산 기지의 스티어는 칩 생산을위한 국내 하이 엔드 전자 수지 개발을 위해 26 년이 걸린 과학 및 기술에 대해 매일 말했다. 전문가들은이 하이 엔드 소재가 미국과 일본의 모노폴리를 파괴하고 중국의 자율 칩 개발을 크게 가속화 할 수 있다고 생각합니다. 선형 페놀 수지의 "photoresist"의 성공은 몇몇 광부 기업 ("칩" 상류 기업)가 "핵" 물자, 과학 및 기술 매일 기자의 정상에 옵니다.

탐험의 26 년 후에, “핵심 만들기”의 중요한 물자는 마지막으로 날카롭게 했습니다. Tang Yilin은 말했다 : "우리는 개발하고 성공 할 수있는 이유는 과학 연구 팀이 파괴하지 않고 지구력을 가지고 있으며 다시 찾고 있습니다. 이것은 중장비를 가진 중국 칩 연구를 위한 몇몇 참고를 제공할 수 있습니다. ·